氧化钨溅射靶材 氧化钨靶材
更新时间：2010-01-01 00:00:00
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加工定制:是
种类:化合物半导体
用途:多用于溅射材料、镀膜材料
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详细介绍
本产品的加工定制是是，种类是化合物半导体，用途是多用于溅射材料、镀膜材料，纯度是99.9%——99.999%
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